掩模
yǎn mó
ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ
📖 词语释义
- 拼音字母yan mo
- 首字母ym
- 注音符号ㄧㄢ ㄇㄛ
- 更新2026-07-10 08:53:53
更多解释
掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模（reticle）。